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当社は、複数のお客様、または複数のチップの開発で共同利用が可能な
CMOSシャトルサービスを提供しております。
複数のお客様が同じレチクル内に乗り合わせることで、低価格にて試作を
行うことが出来ます。


 

 


 

項目 内容 
FAB フェニテックセミコンダクター 第一工場 ( 岡山県井原市 )
実施回数 年 2回 
アプリケーション Digital、Mixed  Signal
プロセス 0.6μm CMOS プロセス 
チップサイズ 1.8mm □ または 3.6mm□
チップ厚 250μm 
サンプル数 20個  ※
 標準納期 3ヶ月 ( データ締切からチップ納入まで ) 

※ 別途組立オプションがございます。 詳しくは下記ご案内をご参照ください。



 

項目 内容
Process rule 0.6μm
Number of Polysilicon layer 1 Polysilicon layer
Number of Metal layer 3 Metal layers
MOS gate Polysilicon
Minimumu gate length 0.6μm
MOS Vth 0.84V / -1.0V ( N / P )
Operation Voltage 5V
Absolute max. voltage 6V 
Capacitor MOS Capacitor ( 2.6 f F /μ㎡ )
HR poly resistor 7000 Ω/sq 
LR poly resistor   20 Ω/sq